عوامل موثر بر عملکرد فیلم های بسته بندی سد اکسید سیلیکون تبخیر شده

I. عوامل مؤثر بر عملکرد فیلم‌های بسته‌بندی مانع اکسید سیلیکون رسوب‌شده با بخار

فیلم پایه تبخیر، روش تبخیر، شرایط تبخیر، و همچنین ترکیب پوشش تبخیر، ضخامت لایه تبخیر و غیره، ممکن است تأثیر زیادی بر عملکرد فیلم بسته‌بندی مانع اکسید سیلیکون از نوع تبخیر داشته باشد.

1. گزینش پذیری بستر

همانطور که قبلا ذکر شد، ویژگی های مانع فیلم های بسته بندی مانع اکسید سیلیکون تبخیر شده به پوشش SiOx بستگی دارد، بنابراین پوشش نمی تواند در طول فرآیند تبخیر از بین برود. فیلم بسته بندی مانع اکسید سیلیکون پوشش داده شده با بخار معمولاً با فیلم های دیگر لمینیت می شود تا یک فیلم بخار ایجاد شود، در انتخاب بستر بخار باید به موارد زیر توجه شود.

(1) نوع فیلم پلاستیکی

تبخیر فیلم اکسید سیلیکون و چسب فیلم پلاستیکی بین نوع فیلم پایه پلاستیکی رابطه بیشتری بین PET، PVC و سایر فیلم های قطبی دارد و اکسید سیلیکون بین چسبندگی بهتر است، در حالی که فیلم غیر قطبی و چسبندگی بین اکسید سیلیکون بدتر است.

(2) وضعیت سطح فیلم پلاستیکی

خاصیت مانع فیلم بسته بندی مانع اکسید سیلیکون تبخیر شده نه تنها تحت تأثیر ضخامت لایه تبخیر شده قرار می گیرد، بلکه یکنواختی پوشش اکسید سیلیکون نیز به میزان بیشتری تعیین می شود. ترک ها، سوراخ های سوزنی و سایر نقص ها، منجر به کاهش قابل توجهی از نوع تبخیر مانع فیلم بسته بندی اکسید سیلیکون می شود، تشکیل نقص علاوه بر تبخیر ترکیب شیمیایی و ساختار خود لایه، استفاده از صافی سطح فیلم پایه، همچنین یک عامل مهم است، هر چه زبری بیشتر باشد، احتمال ایجاد نقص در تبخیر بیشتر است، اما مقدار مناسب زبری باعث می شود لایه تبخیر و سطح لایه پایه بین تشکیل یک لنگر فیزیکی برای بهبود چسبندگی ایجاد شود. بین لایه

(3) شرایط پیش تصفیه سطح فیلم پلاستیکی

برای به دست آوردن فیلم‌های رسوب‌شده با بخار با کیفیت بالا، درمان تاج سطحی متوسط ​​فیلم پایه ضروری است. فیلم پلاستیکی پس از درمان تاج سطحی، می تواند یک لایه اکسیدی بر روی سطح خود ایجاد کند (از طریق اتصال متقابل، ازن، کربوکسیلاسیون، نیتراسیون و سایر واکنش های شیمیایی پیچیده، مانند اکسیژن، نیتروژن و سایر اتم ها و گروه های اتمی وارد شده به سطح پلاستیک. فیلم)، افزایش لایه پایه و نیروی پیوند پوشش آبکاری بخار بین پوشش. در مورد تجهیزات پیش تصفیه خاص، اگر زمان پیش تصفیه کافی نباشد، اصلاح سطح کافی نیست، منجر به کاهش لایه پایه و پوشش بین ترکیبی از ثبات می شود. زمان پیش تصفیه بیش از حد طولانی است، ممکن است باعث شود سطح فیلم پایه عمیق تر از تضعیف سطحی، تولید لایه سطحی ضعیف خود فیلم پایه، بلکه توسط سطح زیرلایه و لایه آبکاری بخار بین نیروی پیوند کاهش می یابد.

2. تأثیر شرایط فرآیند رسوب بخار بر عملکرد فیلم بسته‌بندی مانع اکسید سیلیکون رسوب‌شده با بخار

چه با استفاده از رسوب بخار فیزیکی یا شیمیایی، شرایط فرآیند رسوب بخار ممکن است تأثیر قابل توجهی بر عملکرد فیلم بسته‌بندی سد سیلیکون اکسید سیلیکون رسوب‌شده با بخار داشته باشد، بنابراین باید تا آنجا که ممکن است برای بهبود خواص مانع فرآیند فیلم رسوب‌شده با بخار استفاده شود. شرایط

(1) هنگامی که از رسوب فیزیکی بخار استفاده می شود.

سطح خلاء، دمای لایه زیرلایه، قدرت تفنگ الکترونی، شکل تبخیر SiO2 ماده خام، سرعت ورود اکسیژن به محفظه خلاء، ضخامت پوشش تبخیر (تعیین شده توسط زمان تبخیر) و قدرت تبخیر) بر عملکرد محصول نهایی تأثیر می گذارد.

① هر چه درجه خلاء در طول تبخیر بیشتر باشد، برای تبخیر SiO2 مطلوب تر است و کیفیت پوشش تبخیر بالاتر می رود.

② تبخیر دمای فیلم پایه پلاستیکی بالا است، منجر به تبخیر SiO می شود، در رسوب فیلم پایه پلاستیکی، تشکیل پوشش های متراکم و منجر به بهبود چسبندگی بین لایه تبخیر و فیلم پایه پلاستیکی می شود، بنابراین مناسب است. برای افزایش دمای لایه پایه پلاستیکی، منجر به بهبود کیفیت تبخیر لایه های نازک می شود.

③ با استفاده از بمباران تفنگ الکترونی، تبخیر SiO2، استفاده از یک بلوک SiO2 مناسب است، زیرا SiO2 پودر شده توسط تفنگ الکترونی بمباران می شود، پدیده کندوپاش پودر به راحتی تولید می شود، بر کیفیت تبخیر فیلم تأثیر می گذارد و SiO2 پودر می شود. برای مقاومت در برابر حرارت و تبخیر مساعد است.

④ نرخ ورود اکسیژن بر ترکیب لایه تبخیر تأثیر می گذارد، یعنی نسبت تعداد اتم های Si به تعداد 0 اتم در SiOx. هر چه مقدار اکسیژن بیشتر باشد، یعنی مقدار x بزرگتر باشد، لایه تبخیر در جهت شفافیت بهبود یافته حرکت می کند، اما مانع تمایل به کاهش دارد. هنگامی که x برابر با 2 است، عملکرد مانع ضعیف است، لایه پوشش بخار شفاف بی رنگ، معمولا x بین 1.5 ~ 1.8 کنترل می شود تا هم مانع بالا و هم شفافیت خوب فیلم اکسید سیلیکون پوشش بخار را به دست آورید.

ضخامت لایه رسوب بخار افزایش می یابد، خاصیت مانع فیلم رسوب بخار افزایش می یابد، اما زمانی که ضخامت لایه رسوب بخار از 50 نانومتر بیشتر شود، ضخامت لایه رسوب بخار بیشتر افزایش می یابد، خاصیت مانع فیلم رسوب بخار اساساً بدون تغییر باقی می ماند، بنابراین نمی توان انتظار داشت که به کاهش سرعت خط تولید (افزایش زمان رسوب بخار)، افزایش ضخامت روش لایه بخار، برای بهبود نامحدود ویژگی مانع فیلم رسوب بخار تکیه کنیم.

(2) آبکاری بخار شیمیایی، موج الکترومغناطیسی با فرکانس بالا یا انتخاب فرکانس مایکروویو، باید با یونیزاسیون جو در انرژی یونیزاسیون و انرژی مورد نیاز برای یونیزاسیون مواد آبکاری شده با بخار برای مطابقت با موج الکترومغناطیسی با فرکانس بالا یونیزه شود. به طور کلی 13.56 مگاهرتز است، مایکروویو به طور کلی 2.45 مگاهرتز است، خلاء در 10-2Pa یا بیشتر می تواند اثر آبکاری بخار عالی به دست آورد، و آبکاری بخار فیزیکی نیاز به خلاء بالاتری دارد، یعنی خلاء 10-2 ~ 10-3Pa. بالاتر است. 10-2~10-3Pa یا خلاء بالاتر.

Nanjing Suminoe Precision Machinery Co., Ltd. مجموعه ای از تحقیقات علمی، تولید، فروش در یکی از شرکت های با فناوری پیشرفته است و همیشه به یکپارچگی، برابری، فلسفه کسب و کار اول منافع مشتری، به منظور بهبود بهتر، پایبند بوده است. کیفیت تجهیزات، به مسیر تولید استاندارد حرفه ای تر. ما یک صفحه ورق پلاستیکی، ریخته‌گری، کشش دو جهته، پارچه‌های مذاب نبافته نبافته، کامپوزیت فیلم، سیستم بازیافت حفاظت از محیط‌زیست دانه‌بندی تجدیدپذیر و سیستم تولید ماشین پوشش و هفت دسته دیگر تجهیزات، مرکز فناوری تحقیق و توسعه مستقل و بخش های تولید ما مجموعه کاملی از راه حل های فنی حرفه ای را برای رفع نیازهای خاص هر مشتری ارائه می دهیم. از جمله، در مورد سیستم تولید لمینیت اکستروژن، یعنی لمیناتور فیلم، خطوط تولید زیر برای سفارشی سازی در دسترس است: خط تولید لمینیت PE دو/سه گانه، خط تولید لمینیت LDPE (3 در 1)، PP، PE، خط تولید لمینیت دو طرفه PLA، خط تولید لمینیت پرسرعت فویل آلومینیومی، خط تولید لمینیت باند PP، خط تولید لمینیت پارچه های نساجی، خط تولید لمینیت چسب داغ، خط تولید لمینیت اکستروژن چند لایه، خط تولید لمینیت گرافن و سایر تجهیزات لمینیت خط لمینت با روکش گرافن، خط لمینیت فیبر کربن.